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共聚焦顯微鏡粗糙度偏差解析

在半導(dǎo)體、超精密制造領(lǐng)域，表面粗糙度測(cè)量精度直接決定產(chǎn)品質(zhì)量與服役性能。本文聚焦激光共聚焦顯微鏡（LCM）實(shí)測(cè)粗糙度數(shù)據(jù)偏差、重復(fù)性差的行業(yè)共性問題，結(jié)合ISO官...

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鏡筒定位面平面度管控及光學(xué)輪廓測(cè)量質(zhì)檢方案

摘要：鏡筒定位面（Lens barrel positioning surface）平面度直接影響光學(xué)組件同軸度（Optical assembly coaxiali...

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MEMS 腔體溝槽深度不均白光干涉檢測(cè)優(yōu)化工藝

微機(jī)電系統(tǒng)（Micro-Electro-Mechanical System, MEMS）腔體溝槽（Trench Cavity）是傳感、封裝類器件的核心微結(jié)構(gòu)，其深...

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光學(xué) 3D 輪廓儀檢測(cè) CMOS 芯片面形，優(yōu)化成像畫質(zhì)

CMOS感光芯片的面形精度（Surface Shape Precision）是決定終端成像畫質(zhì)（Imaging Quality）的核心制程指標(biāo)。芯片表面翹曲、微觀...

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