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            • 新啟航半導體有限公司


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              05
              2026
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              06
              鈣鈦礦薄膜激光劃線熱損傷控制與劃線公差精密管控工藝研究
              摘要鈣鈦礦光伏量產(chǎn)中,激光劃線產(chǎn)生的薄膜熱損傷是造成晶體畸變、組分流失、器件效率衰減的關鍵工藝缺陷。本文從皮秒激光參數(shù)優(yōu)化 + 低溫氣氛退火實現(xiàn)熱損傷抑制,依托 ...
              鈣鈦礦薄膜激光劃線熱損傷控制與劃線公差精密管控工藝研究
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              2026
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              白光干涉儀(White Light Interferomet...
              一、研究背景超薄薄膜構件(Ultra-thin Film Component)是微納光學、半導體封裝(Semiconductor Packaging)、柔性電子(...
              白光干涉儀(White Light Interferometer, WLI)高精度表征下超薄薄膜(Ultra-thin Film)表面瑕疵與工藝誤差關聯(lián)性研究
              05
              2026
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              06
              MEMS梳齒結構線寬齒距失準,白光干涉儀校準光刻制程修正尺寸...
              MEMS 慣性器件性能高度依賴梳齒電容尺寸精度,光刻量產(chǎn)受曝光能量波動、晶圓平整度、掩模形變、顯影速率差異影響,普遍產(chǎn)生梳齒線寬偏移、齒距不均、側壁傾斜等尺寸失準...
              MEMS梳齒結構線寬齒距失準,白光干涉儀校準光刻制程修正尺寸偏差
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              2026
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              06
              USI 白光掃描:透明金屬疊層結構微納形貌失真原理溯源(US...
              本文依據(jù)白光干涉儀官方技術手冊、半導體微納檢測國標規(guī)范及《光學學報》《激光與光電子學進展》公開核心研究成果,聚焦半導體透明介質(zhì)/金屬基底疊層微納結構,溯源USI通...
              USI 白光掃描:透明金屬疊層結構微納形貌失真原理溯源(USI White Light Scanning: Traceability of Micro-Nano Morphology Distortion Principle for Transparent-Metal Stack Structure)
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