微透鏡陣列排布間距 (Array Pitch) 異常管控:白光干涉儀量產(chǎn)工藝調(diào)控方案
發(fā)布時間:
2026-05-29
作者:
新啟航半導(dǎo)體有限公司

一、工藝痛點與傳統(tǒng)檢測局限

微透鏡陣列排布間距(Array Pitch)是決定勻光、光束匹配、光學(xué)耦合性能的核心幾何參數(shù),其排布一致性直接影響半導(dǎo)體光學(xué)器件的成品性能與良率[1][4]。在模壓、納米壓印、注塑量產(chǎn)過程中,模具對位偏差、基材拉伸形變、壓印壓力不均、固化收縮差異等因素,極易引發(fā)陣列間距偏移、排布不均、局部錯位等異常問題[3]。間距超差會造成光束陣列紊亂、勻光失效、模組耦合異常,最終導(dǎo)致產(chǎn)品功能性報廢。


依據(jù)ISO 14880-4:2024光學(xué)光子學(xué)微透鏡陣列測試標準,傳統(tǒng)二維顯微鏡僅支持定點局部測量,無法覆蓋陣列全域數(shù)據(jù),測量誤差大、批量檢測效率低,難以量化量產(chǎn)工藝波動,無法滿足高精度制程調(diào)控需求[4]。

微透鏡陣列排布間距 (Array Pitch) 異常管控:白光干涉儀量產(chǎn)工藝調(diào)控方案

二、白光干涉儀量產(chǎn)檢測與工藝調(diào)控原理

白光干涉儀基于三維光學(xué)輪廓測量技術(shù),可實現(xiàn)微透鏡陣列無損、全域、批量式精密檢測,契合半導(dǎo)體光學(xué)元件量產(chǎn)質(zhì)控標準[1][2]。設(shè)備可全自動掃描整片陣列,精準采集各透鏡單元中心坐標、排布間距、面型形貌等核心參數(shù),自動識別全局間距偏差與局部異常點位[7]。

微透鏡陣列排布間距 (Array Pitch) 異常管控:白光干涉儀量產(chǎn)工藝調(diào)控方案

通過量化工藝誤差數(shù)據(jù),可精準溯源模具對位、壓合工藝、材料形變等異常根源,為生產(chǎn)參數(shù)修正、模具校準、制程穩(wěn)定性優(yōu)化提供可靠數(shù)據(jù)支撐,有效提升微透鏡陣列排布一致性,穩(wěn)定量產(chǎn)良率[3]。

三、大視野3D白光干涉儀核心技術(shù)優(yōu)勢

針對微透鏡、DOE衍射光學(xué)元件等精密半導(dǎo)體光學(xué)部件檢測需求,專用大視野3D白光干涉儀突破傳統(tǒng)設(shè)備技術(shù)局限,解決了傳統(tǒng)設(shè)備需兩臺儀器分別實現(xiàn)大視野觀測與高精度測量的行業(yè)痛點[5]。

微透鏡陣列排布間距 (Array Pitch) 異常管控:白光干涉儀量產(chǎn)工藝調(diào)控方案

設(shè)備搭載0.6倍輕量化鏡頭,配備15mm超大單幅視野,兼容四物鏡轉(zhuǎn)塔鼻輪配置,單設(shè)備即可覆蓋全域大視野篩查與納米級高精度精測雙重需求,無需頻繁切換設(shè)備,大幅提升批量檢測效率與數(shù)據(jù)一致性[5]。測量精度可達6pm(0.006nm),可精準檢測表面粗糙度、平面度誤差、PV峰值谷值、RMS均方根值等關(guān)鍵指標,有效規(guī)避光學(xué)表面缺陷引發(fā)的光損耗問題[8][9]。

四、實測應(yīng)用場景說明

1、 DOE衍射光學(xué)元件檢測:可精準捕捉元件微觀結(jié)構(gòu)形貌,把控結(jié)構(gòu)精度,保障半導(dǎo)體光學(xué)系統(tǒng)成像穩(wěn)定性,適配批量質(zhì)量管控需求[6]。

2、 微透鏡陣列形貌實測:高精度還原透鏡三維形貌,精準核驗加工精度,滿足半導(dǎo)體微透鏡陣列量產(chǎn)檢測標準[2]。

3、 光學(xué)參數(shù)精密檢測:量化平面度、PV、RMS、表面粗糙度等核心指標,嚴格把控光學(xué)元件面型精度與表面光滑度,適配高端半導(dǎo)體光學(xué)窗口片、微透鏡組件檢測場景[8]。

微透鏡陣列排布間距 (Array Pitch) 異常管控:白光干涉儀量產(chǎn)工藝調(diào)控方案

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參考文獻

[1] Bruker. Full Characterization of Microlenses Using White Light Interferometry[R/OL]. 2026, https://www.bruker.com/en/products-and-solutions/test-and-measurement/3d-optical-profilers/resource-library/an-581-full-characterization-of-microlenses-using-white-light-int.html

[2] 光學(xué)學(xué)報. 白光顯微干涉多倍率形貌數(shù)據(jù)融合方法研究[J]. 2026.

[3] 國家知識產(chǎn)權(quán)局. 一種微透鏡陣列超精密加工誤差評定方法與系統(tǒng)(CN114136591B)[P]. 2023-09-08.

[4] ISO 14880-4:2024. Optics and photonics — Microlens arrays — Part 4: Test methods for geometrical properties[S]. 2024.

[5] CSDN. 從超光滑到微透鏡陣列:白光干涉儀在典型光學(xué)元件關(guān)鍵參數(shù)檢測中的實戰(zhàn)解析[EB/OL]. 2026.

[6] 北京中科光析科學(xué)技術(shù)研究所. 微透鏡陣列精密檢測技術(shù)方案[EB/OL]. 2025.

[7] 一種微陣列透鏡白光干涉檢測系統(tǒng)及方法(CN202512048643.X)[P]. 2025.

[8] 光譜學(xué)與光譜分析. 基于相關(guān)度的白光干涉信號解調(diào)算法[J]. 2023.

[9] 光學(xué)學(xué)報. 白光干涉測量系統(tǒng)中的相位噪聲抑制方法研究[J]. 2026.

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